Jasmax projeta pavilhão da Nova Zelândia inspirado na cultura maori para a Expo 2020 Dubai

O escritório de arquitetura Jasmax foi escolhido para projetar o Pavilhão Nacional da Nova Zelândia para a Expo 2020 Dubai, evento que reunirá 180 nações e 25 milhões de visitantes do mundo todo. Ao longo de seis meses, o evento irá explorar a colaboração para lidar com desafios e oportunidades globais. O tema da Nova Zelândia para a Expo 2020 é "Cuidar de pessoas e lugares", e seu pavilhão contará com uma exposição, acomodações corporativas, um restaurante e uma loja voltada ao design.

O pavilhão da Nova Zelândia estará localizado no Distrito de Sustentabilidade e foi pensado para promover a Nova Zelândia como um país aberto aos negócios, parcerias, investimentos, estudos e turismo. Projetado pelo escritório Jasmax, em parceria com o Special Group e a empresa de engenharia Mott MacDonald, o pavilhão foi inspirado no waka taonga, espécie de urna feitas pelos Maori, o povo indígena da Nova Zelândia, para proteger artefatos valiosos. Os recipientes esculpidos, chamados waka huia e papahou, são importantes símbolos culturais para proteção e manutenção de valores e práticas. Na Expo 2020, o pavilhão será apresentado como um waka taonga - um receptáculo para aspectos essenciais da identidade e valores da Nova Zelândia.

Para a Expo 2020, os Emirados Árabes Unidos e o xeque Mohammed bin Rashid, vice-presidente e governante de Dubai, elegeram o tema Connecting Minds, Creating the Future como eixo norteador. O presente da Nova Zelândia para o mundo será o kaitiakitanga, que representa um "cuidado para com as pessoas e lugares".

Sobre este autor
Cita: Baldwin, Eric. "Jasmax projeta pavilhão da Nova Zelândia inspirado na cultura maori para a Expo 2020 Dubai" [Jasmax Designs New Zealand's Expo 2020 Dubai National Pavilion Inspired by Māori Culture] 06 Out 2018. ArchDaily Brasil. (Trad. Baratto, Romullo) Acessado . <https://www.archdaily.com.br/br/903093/jasmax-projeta-pavilhao-da-nova-zelandia-inspirado-na-cultura-maori-para-a-expo-2020> ISSN 0719-8906

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