A Bienal de Arquitetura de Chicago (CAB) anunciou a escolha de Sharon Johnston e Mark Lee, do escritório Johnston Marklee, de Los Angeles, como diretores artísticos da edição de 2017 do evento. Na esteira do sucesso inaugural da Bienal em 2015, a segunda edição acontecerá entre 16 de setembro e 31 de dezembro do próximo ano.
Falando exclusivamente ao ArchDaily, os diretores comentaram:
Estamos animados com o convite para sermos Diretores Artísticos da segunda edição da maior exposição de arquitetura contemporânea da América do Norte. Contar com uma plataforma global para abordar ideias e expor o talento no campo da arquitetura em uma cidade com uma linhagem arquitetônica tão extraordinária é uma oportunidade única.
Desde 1998 o escritório tem trabalhando com projetos residenciais, comerciais e institucionais com foco particular nas artes. Os arquitetos colaboram frequentemente com artistas, designers e escritores para, em suas próprias palavras, "ampliar a abrangência de suas pesquisas" com o objetivo de estabelecer "fronteiras permeáveis para resultados maiores."
A Bienal também anunciou Todd Palmer, ex-diretor do National Public Housing Museum, como Diretor Executivo do evento de 2017. Ele trabalhará em conjunto com a presidência da CAB para estabelecer a Bienal como "uma atração mundial na cidade."
